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一（yī）般排氣 (GEX)係統也稱為熱（rè）排（pái）氣係統，生產過程中一些設備局部會產生大量的熱或產生會對高潔淨（jìng）度生產（chǎn）環境造成影響的含塵無（wú）害氣（qì）體。為了滿足（zú）半（bàn）導體製程對環境溫濕度((22±1)℃，(45±5)％)和潔淨度的極高要求，可將此種廢氣（qì）通過風管係統進（jìn）行收集，然後以風機抽取並排放。雖然一般排氣用於抽取設備的含塵排放，但由於（yú）一般排氣係統抽取的氣體直接（jiē）來自（zì）潔淨室內，且設備含塵排放濃度很低，因此在總（zǒng）風管處檢測的結果仍為潔（jié）淨級別，屬於（yú）室溫範圍。因此 GEX可以（yǐ）直接排放至（zhì）大氣環境，不需做任何處理（lǐ），為無害排放。

2、酸堿廢氣處理係統：

半導體製造中產生的（de）酸性和（hé）堿性廢氣（qì）采（cǎi）用（yòng）分別收集、分別處理的方法，處理設備和處理原理基本相同。對於含有酸性／堿性（xìng）物質的（de）廢氣，大都采用（yòng）大型洗滌式中央廢（fèi）氣處理係統進行處理。由於半導體製造工作區域離中央廢氣（qì）處理係統距離較遠，因（yīn）此部分酸（suān）性／堿性廢氣在輸送至中央廢氣（qì）處理係統前，常因氣體特性（xìng）導（dǎo）致在管路中結晶或粉塵堆積，造成管路堵塞後導致氣體外（wài）泄，嚴重者甚至引發爆炸，危害現場工作人（rén）員的工作安全。因此在（zài）工作區域需配置適合製程氣（qì）體特性的就地廢氣處（chù）理設備進行（háng）就地處理，之後再排入中（zhōng）央處理係統（tǒng），而一些特殊的廢氣，包括劇毒（dú）、自燃、易爆等廢（fèi）氣則需（xū）要先通過幹式洗滌塔等設備通過吸附或氧化／燃燒等方法就地處理，之後再排人中央廢氣處理係統。

3、有機廢氣處理（lǐ）係統（tǒng）：

半導體製造過程中排放（fàng）的含有有機成分的廢氣通常采用直接焚（fén）燒、活性炭吸附（fù）、生物氧化等方法進行處理。隻有較高濃（nóng）度的有機廢（fèi）氣才建（jiàn）議直接焚燒；活性碳吸附的方法，隻有極低濃度的有機廢氣才建議使用。但由（yóu）於其材料特性，存在易燃燒、水分敏感度高、脫附（fù）後殘（cán）留負荷高等缺點，中高濃度（dù）基本不再使用；半導體製造的有機廢氣排放特點是濃（nóng）度較低，但排風量較大，因此（cǐ）必須考慮將有機廢氣濃縮後再進行焚燒處理。沸（fèi）石濃縮（suō）轉（zhuǎn）輪係統和焚化爐焚化係統的組合（hé）可以很好地解決這（zhè）一問題。

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