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一般排氣 (GEX)係（xì）統（tǒng）也稱為熱排氣係統，生產過程中一些（xiē）設備局（jú）部會產生大量的熱或（huò）產生會（huì）對高潔（jié）淨度生產環（huán）境造成（chéng）影響的含塵無害氣體。為（wéi）了滿足半導體製程對環（huán）境溫濕度((22±1)℃，(45±5)％)和（hé）潔淨度的極高（gāo）要求，可將此種廢氣通過風管係統進行收集，然後（hòu）以風機抽取並（bìng）排放。雖然一般排氣用於抽取設備的含塵排放（fàng），但由於一般排氣係統抽取的氣（qì）體（tǐ）直接來自潔淨室內，且設備含塵排放濃度很低，因此在總風管處檢測的（de）結果仍為潔淨級別，屬於（yú）室溫範圍。因此 GEX可以直接排（pái）放至大氣環境，不需做任何處理（lǐ），為無害排放。

2、酸堿廢氣處理係（xì）統：

半導體製（zhì）造（zào）中產生的酸性和堿性廢氣（qì）采用（yòng）分別收集、分別處理的方法，處（chù）理設備和處理原理基（jī）本相同。對於含有（yǒu）酸性／堿性物質的廢氣，大都采用大型洗滌式中央廢氣處（chù）理係（xì）統進行處理（lǐ）。由於半導體製造工作（zuò）區域離中央廢氣處理係統距離較遠，因此部分酸性／堿性廢氣在輸送至中央廢氣處理係統前，常因氣體特性導致在管路中結晶或粉塵堆積，造成管路（lù）堵塞後導致氣體外泄，嚴重者甚至引發爆炸，危（wēi）害現場工作人員的工作（zuò）安全。因此在工作區域（yù）需配置適合製程氣體特性（xìng）的就地（dì）廢氣處理設備進行就地處理，之後再排入中央處理係統，而一些特（tè）殊的廢氣，包括劇毒、自燃、易爆（bào）等（děng）廢（fèi）氣則需要先通過幹式（shì）洗滌塔等設備通過吸附或氧（yǎng）化／燃燒等方法就地處理，之後再排（pái）人中央廢氣（qì）處理係統。

3、有機廢氣處理係統：

半導體製（zhì）造（zào）過程中排（pái）放的含有有機成分的廢氣通常采用直接焚燒、活性炭吸附、生物氧化（huà）等方法（fǎ）進行處（chù）理。隻有較高濃度的有機廢氣才建議直（zhí）接焚燒；活性（xìng）碳（tàn）吸附的方法，隻有極低濃度的有機廢氣才建議使（shǐ）用。但（dàn）由於其材料特性，存在易燃燒、水分敏感（gǎn）度高、脫附後殘留負（fù）荷高等缺點，中（zhōng）高濃度基本不再使用；半（bàn）導體製（zhì）造的有機廢氣排（pái）放特點是濃度較低，但排風量較（jiào）大，因此必（bì）須（xū）考慮將有機廢氣濃縮後再進行焚燒處（chù）理。沸（fèi）石濃縮轉（zhuǎn）輪係統和焚化爐焚化係統（tǒng）的（de）組合可以很好地解決這一問題。

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