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一（yī）般排氣 (GEX)係統也稱為熱排氣係統，生產過程中一些設備局部會產生大量的熱或產生會對高潔淨度生產環境造（zào）成影響的含塵無（wú）害氣體（tǐ）。為了（le）滿足半導體製程（chéng）對環（huán）境（jìng）溫濕度((22±1)℃，(45±5)％)和潔淨度的極高要求，可將此種廢氣通過風管係統進行收集，然後以（yǐ）風機抽取並（bìng）排放。雖然一般排氣用於抽取設備的含塵排放，但由於一般排氣（qì）係統抽取的氣體直接（jiē）來自潔淨室內，且設備含塵排放濃（nóng）度很低，因此在總風管處檢測的結果仍為潔淨級別，屬於室溫範圍。因（yīn）此 GEX可以直接排放至大（dà）氣環境，不需做任何處（chù）理，為無害排放。

2、酸堿廢氣處理係統：

半導（dǎo）體製造中產生的酸性和堿性廢氣采用分別收集、分別處理的（de）方（fāng）法（fǎ），處理（lǐ）設備和處理原理基本相同。對於含有酸性／堿性物質的廢氣，大都采用大型洗滌式中央廢氣處理係統進行處理。由於半導體製造工作區域離中央（yāng）廢氣處理係統距離較遠，因此部分酸性／堿性廢氣在輸送至中央廢氣（qì）處理（lǐ）係統前，常因氣體特性（xìng）導致在管路中（zhōng）結晶或粉塵堆積，造成管路堵塞（sāi）後導致氣體外泄，嚴重者甚至引發爆炸，危害現場工作人（rén）員的工作安全。因此在工作區域（yù）需配置適合製程氣體特性的就地廢氣處理設備進行就地處理，之後再排入（rù）中央處理係統，而一些特殊的（de）廢氣，包括劇毒、自燃、易（yì）爆等廢氣則需要先通過幹式洗滌塔等設備（bèi）通過吸附（fù）或氧化／燃燒等方法就地處（chù）理，之（zhī）後再排人中央廢（fèi）氣處（chù）理係統。

3、有機廢氣處（chù）理係統：

半導體製造過程中排放的含有有機成分的（de）廢氣通常（cháng）采（cǎi）用直接焚燒、活性炭吸附、生物氧化等方法進行（háng）處理。隻（zhī）有較高濃（nóng）度的有機廢氣（qì）才建議直接焚（fén）燒；活性碳吸附的方法，隻有極低濃度的有機廢氣才建議使用（yòng）。但由於其材料特性，存在易燃燒、水分敏感度高、脫附後殘留負荷高等缺點，中高濃度基本不再使用（yòng）；半導體製造的有機廢氣排放特（tè）點是濃度較低，但排風量較大，因此必須考慮將有機廢氣濃縮後再（zài）進行焚（fén）燒處理。沸石濃（nóng）縮轉（zhuǎn）輪係統和焚化爐焚化係統的組合可以很好地解決（jué）這一問題。

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